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有机合成专题

?2010/1/7

资料类型：	单元、专题训练	文件大小：	228.4 KB
来源：	zhuzidizi整理	资料点评：
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命题范围：
鲁科版有机化学基础第三章第三节
(3).在电脑芯片生产领域，高分子光阻剂是光刻蚀线宽芯片的关键技术.F是这种高分子光阻剂生产中的主要原料.F具有如下特点：①能跟溶液发生显色反应：②能发生加聚反应；③芳环上的一氯代物只有两种.F在一定条件下发生加聚反应的化学方程式为 .
(4).化合物G是F的同分异构体，它属于芳香族化合物，能发生银镜反应.G可能有
种结构，写出其中任一种同分异构体的结构简式 .

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